PHI 06-C60型离子枪
简介
PHI06-C60型离子枪设计独特，适用于多种有机物和聚合物材料表面（陶瓷/玻璃）低损伤的清洁和溅射深度剖析。该离子枪产生C60离子束，经过韦恩过滤器过滤后轰击到样品表面，其初始动能就会分配到60个碳原子上。与Ar离子束溅射对有机物和聚合物造成严重的化学破坏不同，C60离子束可对样品表面形成高效率溅射过程且对样品化学成分造成的破坏最小。PHI 06-C60型离子枪作为一种配置选项，在当前的仪器设计中，适用于Quantera SXM和VersaProbe型仪器，。该离子枪经过改装也可用于多种Ulvac-Phi Quantera和PHI 5000系列的XPS仪器。另外，该离子枪的控制器和扫描控制单元均由计算机控制。
图1 - PHI 06-C60 10kV - C60型离子枪
应用优势
以两片被硅氧烷污染的PET 薄膜为例，分别用500 V Ar 离子束和10 kV C60离子束溅射，分析结果如图2所示用 Ar 离子束溅射1 nm后，PET的C 1s谱图中看到明显化学破坏；用Ar离子束溅射20 nm后，PET的C 1s谱图中看到剧烈化学破坏。而与之对应C60离子束溅射20 nm后，PET的C 1s谱图中看到化学成分几乎与未溅射表面没有区别，说明在溅射过程中C60离子束对样品化学成分造成的破坏非常小。
图2 - PET 样品的C 1s高分辨谱随溅射深度变化的关系 (a) 500V Ar 离子束 (b) 10kV C60离子束。C 1s 谱表明经500V Ar 清洁后出现严重的化学成分破坏
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