第六届中国二次离子质谱会议
二次离子质谱仪（SIMS）是用来检测材料的一种仪器，而其中飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）更是重要的表面化学分析手段之一，可用于多种固体样品的直接分析。同时TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，可以精确确定样品表面元素的构成：通过对分子离子峰和官能团碎片的分析可以方便地确定表面化合物和有机样品的结构，配合样品表面的扫描和剥离，可以得到样品表面甚至三维的成分图，具有更高的分析精确度。
于2016年10月8日至11日在中科院大连化学物理研究院举行的“第六届中国二次离子质谱会议”（The 6th Chinese National Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry，SIMS），即是为推动我国二次离子质谱研究的发展而举办的会议，此次会议吸引了海外SIMS领域的专家及国内SIMS研究人员近百位参会。
第六届中国二次离子质谱会议是一个国际性的盛会。大会其邀请到一共一百多名国内外SIMS研究人员出席了会议，当中包括上届国际SIMS大会主席、英国国家物理实验室Ian Gilmore教授，美国分析化学杂志(Analytical Chemistry)副主编、瑞典歌德堡大学Andrew Ewing教授和日本京都大学Jiro Matsuo教授等等。另外，台湾中央研究院薛景中教授（Prof.Jing-Jong Shyue），ULVAC-PHI的饭田真一博士及高德PHI北京公司叶上远 (Wensly Yip)等与会专家就SIMS仪器的研发、理论发展及其在不同领域的开拓应用进行了精彩的专题报告（Prof.Jing-Jong Shyue,《Depth profiling of soft materials with cluster-atomic ion co-sputter》; 饭田真一博士,《Easy Compound Identification in TOF-SIMS By using Parallel Imaging MS/MS》; 叶上远 Wensly Yip,《Analyzer Acceptance Angle & The Advent of 3D Chemical and Molecular Imaging by FIB-TOF Tomography》）,并引发了参会人员的热烈讨论。
此次会议为我司与二次离子质谱科技界提供了一个学术、技术交流及合作的平台，使与会者更对我司最新产品有了充分了解，也使得我司进一步明确了二次离子质谱仪未来发展趋势和用户需求需求。
第六届中国二次离子质谱会议会议现场
高德中国区总监叶上远正在作专业的报告
ULVAC-PHI 分析室專門室長飯田真一正在作專業的報告